膜厚仪，分为手持式和台式二种，手持式又有磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。

台式的荧光X射线膜厚仪，是通过一次X射线穿透金属元素样品时·产生低能量的光子，俗称为二次荧光，,在通过计算二次荧光的能量来计算厚度值。

基体金属特性

对于涡流方法，标准片基体金属的电性质，应当与试件基体金属的电性质相似。

基体金属厚度

检查基体金属厚度是否超过临界厚度，无损检测资源网 如果没有，可采用3.3中的某种方法进行校准。

边缘效应

不应在紧靠试件的突变处，如边缘、洞和内转角等处进行测量。

曲率

不应在试件的弯曲表面上测量。

读数次数

通常由于膜厚仪的每次读数并不*相同，因此必须在每一测量面积内取几个读数。覆盖层厚度的局部差异，也要求在任一给定的面积内进行多次测量，表面粗造时更应如此。

表面清洁度

测量前，应**表面上的任何附着物质，如尘土、油脂及腐蚀产物等，但不要除去任何覆盖层物质。